如今，光刻机高端市场被尼康占据，佳能、GCA、SVG和Ultratach占据中端市场，ASML、P＆E、Eaton和日立等占据低端市场。
BSEC在全球光刻机半导体产业中处于垫底的角色。
任重道远！
从纯商业角度上来说，投资成立BSEC是一笔亏本买卖，但只要能为国内光刻机等半导体产业链做些贡献，重生者付出再多也是人生赢家。
对低调的重生者来说，钱就是不断变多的数字，如今最关心自己和家人的人身安全。
在世界范围内，越有名望越安全！
在国内，对G家的贡献越大越安全！
“首长，三家科研所及其配套工厂共有多少干部职工并入？”
国内企事业单位和科研院所的人事制度改革已经启动，个人将与用人单位签订劳动合同，根据工龄和年龄不同，分别签订短期合同、中期合同和长期合同，分为有编制的合同工、没有编制的人事代理和临时工等。
三月六日，经过一年多的反复酝酿，中K院也推出了综合配套改革方案，将科研结构的调整与人事、分配制度和机关管理、社会保障体系的改革配套进行，在五至十年内，将固定研究人员精干到现有科研人员的15左右，流动客座的基础研究人员要超过基础队伍的半数以上。
中K院将有85的研究人员被推向市场，参与国内经济建设和市场竞争，将自己的研究成果转换成生产力。
科技人员也不能混日子了！
由于大量进口半导体生产线的影响，工Y部45所、中K院微电子研究中心、沪海光学精密机械厂、冰城量具刃具厂和阿城继电器厂等国内光刻机等半导体的研发及其配套工厂基本上处于停滞状态，没有订单，企业亏损，没有后续资金投入研发，与国外公司的差距越来越大，基本工资没有保障，人心惶惶，优秀研发人员不断流失。
国内光刻机与国外先进光刻机的差距越来越多，不能将集成电路的研发和生产寄托在进口光刻机身上，放弃研发和生产是不可能的，但需要持续投入巨资才有可能掉的不太远，如今需要花钱的地方太多，心有余而力不足，加上科研院所用人和分配体制上的限制和弊端，需要外力和市场化手段才能打破这些限制和弊端。
看了孙健的提案后，领导们眼前一亮。
“孙健，这是三家科研所及其配套工厂的干部职工名单，一共735人，其中有46名博士、103名硕士，有七成是名牌大学毕业的科研人员，加上家属共有2457人，这份名单交给你，等他们的档案运来后，你再派人登记造册。”
“谢谢首长，我马上调动顺圆房地产公司的员工，在六个月内，除建设光刻机半导体研究院、光刻机公司、硅晶圆公司、光刻胶公司、刻蚀机公司、离子注入机公司、热处理公司、芯片封装公司和芯片检测公司外，再建设一栋综合楼、二栋职工单身宿舍、二座仓库、八百套七十平到一百二十平的精装修住房。”
孙健起身双手接过打印的一本名册，姓名、性别、年龄、学历、职务职称、工资、部门和研究方向。
“首长，现有的735名干部职工原地不动，继续研发原有的项目，启动研发ArF准分子激光器，从四月一日开始，由京城半导体设备公司发放工资，投入研发资金，购买研发设备和材料。”
光刻机公司将包括三家单位拥有的光刻机光源厂、光刻机光学精密仪器厂、光刻机工作台厂和光刻机掩膜版厂等，占员工人数的六成。
“孙健，公司有什么困难，可以直接打电话给我！”
众人感慨，首富做事果然与众不同，在六个月内，建设光刻机半导体研究院、各种光刻机半导体设备生产车间和八百套七十到一百二十平的精装修住房就像小事一桩，众人对京城半导体设备公司的前途充满期望，希望在孙健的带领下，国内光刻机半导体设备生产技术追上世界先进水平。
魏建国也是眼前一亮，以前在原单位要十万元的经费都是求爹爹告奶奶。
“多谢首长！”
“魏总、李副总、钱副总，你们不需担心工程的进展，将原厂房和研究所的设计图纸交给张总，提出京城半导体设备公司的新要求，由于宿舍和厂房还没有着落，现有的735名干部职工原地上班，由京城半导体设备公司从本月开始发放工资。”
“好的，董事长！”
接到命令，副总经理李昌杰、钱国培和副院长欧阳明、陈伟长乘飞机先后从沪海和甘省赶到京城。
孙健、李涛、叶茂和张宏伟在京城淘宝电器公司会议室与魏建国、李昌杰、邓国辉、欧阳明、陈伟长和钱国培见面。
陈伟长研究员是中科院沪海光学精密研究所所长，研究方向是光刻机光学系统，担任光刻机半导体研究院副院长兼任光刻机光学系统研究所所长；钱国培高工是沪海光学仪器厂厂长，担任京城半导体公司副总经理。
“邓院长、欧阳副院长、陈副院长，集中三家的科研技术人员启动ArF准分子激光、5英寸硅晶圆以及与ArF准分子激光配套的镜头、掩膜版和光刻胶的研制工作，人才最重要，将辞职下海的优秀人才尽量请回来，派人登记设备和材料，做好搬迁的准备，超过十年的设备留给原单位，根据科研和生产需要，从国内外订购最新的设备和材料，不担心研发资金。”
“好的，孙总！”
……
三人喜笑颜开。
邓国辉团队早就准备研发ArF准分子激光器，但苦于没有研发资金。
欧阳民团队也可以启动5英寸硅晶圆研发，陈伟长团队可以开始与ArF准分子激光器相配套的光学镜头研发。
BSEC将成立光刻机半导体研究院，下设九所一部，即光刻机光源研究所、光刻机光学系统研究所、硅晶圆研究所、光刻机精密设备研究所、刻蚀机研究所、光刻机热处理研究所、光刻胶研究所、掩膜版研究所、离子注入机研究所和光刻机半导体信息部。